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BNE TC1500
适用于前道光刻工艺I-Line，覆盖先进封装、化合物等领域，占地面积极少的4 Spin Unit设备。可根据客户需求进行设备的定制化开发，以满足客户对于不同产品的需求。
产品详情
| Customized Development 定制化开发 | |
| 客制类型 | 工艺模组 |
| 涂胶Off-line设备 | 涂胶：COT（1~4） 冷/热板：CPL / LHP / HHP…… 边缘曝光：WEE |
| 显影Off-line设备 | 涂胶机：DEV（1~4） 冷/热板：CPL / LHP / HHP…… 边缘曝光：WEE |
| 晶圆尺寸 | 100~200mm，支持双尺寸混跑 |
| 产量 | 120 |
| 工艺 | I-line, PI |
| 基板 | Si, SiC, GaAs, GaN, GaP, Glass, Sapphire |
| 工艺模组 | 涂胶/显影：2C2D（可根据客户需求自由组合） 冷/热板：常规冷热板，高精度热板，支持3 Pin马达驱动，分段动作 边缘曝光：WEE |
| 技术指标 | 操作系统：Windows平台操作系统，系统实时镜像+手动备份 滴胶喷头最大8ea / unit，显影喷头最大2ea / unit Spin Arm：Sharm Arm（省Resist Pump数量）or Individual Arm 温度控制：
系统湿度：THC, 30.0%~50.0%, ±0.1℃ 通讯支持：支持客户EAP、FDC |
| 外观尺寸 | 1240*1570*2600（长*宽*高，单位：mm） |
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