Nikon NSR G线光刻机
  • Nikon NSR G线步进式光刻机
  • 光源波长436nm
  • 分辨率优于0.65µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 1755/1505i7A/B
  • Nikon NSR 1755/1505i7A/B步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.6µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 2005i8A
  • Nikon NSR 2005i8A步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.5µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 2005i9C
  • Nikon NSR 2005i9C步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.45µm
  • 用于2寸、4寸、6寸、8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 2005i10C
  • Nikon NSR 2005i10C步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.45µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 2205i11D
  • Nikon NSR 2205i11D步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.4µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 2205i12D
  • Nikon NSR 2205i12D步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.4µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon NSR 2205i14E
  • Nikon NSR 2205i14E步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.35µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon SF120/130
  • Nikon SF120/130步进式光刻机
  • 光源波长365nm
  • 分辨率优于0.28µm
  • 主要用于6寸、8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon EX12B
  • Nikon EX12B步进式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.3µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon EX14C
  • Nikon EX14C步进式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.25µm
  • 主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S203B
  • Nikon S203B扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.2µm
  • 主要用于4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S204B
  • Nikon S204B扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.18µm
  • 主要用于4寸、6寸及8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S205C
  • Nikon S205C扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.15µm
  • 主要用于8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S206D
  • Nikon S206D扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.12µm
  • 主要用于8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S207D
  • Nikon S207D扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.11µm
  • 主要用于8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S208D
  • Nikon S208D扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.11µm
  • 主要用于8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Nikon S308F
  • Nikon S308F扫描式光刻机
  • 光源波长193nm
  • 分辨率优于0.07µm
  • 主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Canon FPA3000 EX4
  • Canon FPA3000 EX4步进式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.25µm
  • 主要用于主要用于4寸、6寸、8寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Canon FPA5000 ES3
  • Canon FPA5000 ES3扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.18µm
  • 主要用于6寸、8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
Canon FPA5000 ES4
  • Canon FPA5000 ES4扫描式光刻机
  • 光源波长248nm
  • 分辨率优于0.13µm
  • 用于6寸、8寸及12寸生产线
  • 广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域