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Nikon NSR G线光刻机
Nikon NSR G线步进式光刻机
光源波长436nm
分辨率优于0.65µm
主要用于2寸、4寸、6寸生产线
广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
光源波长436nm
分辨率优于0.65µm
主要用于2寸、4寸、6寸生产线
广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
产品详情
| 分辨率 | 0.65µm |
| N.A. | 0.6 |
| 曝光光源 | 436nm |
| 倍率 | 5:1 |
| 最大曝光现场 | 15mm*15mm 17.5mm*17.5mm |
| 对准精度 | 140nm |
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提供中英文软件及2"、4"、6"设备硅片改造
常年提供所有备件、耗材
更多型号设备，欢迎致电或继续浏览我们的网站！
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