产品中心
Products Center
BNE SWS2000
- 公司自主研发单芯片设备SWS 2000
- 可用于2/ 4/ 6/ 8 inch（厚度300~1500μm，翘曲度<2μm）晶圆的金属/氧化层（Matel/ OxideEtching），清洗（Clean），刷洗（Scrubber）工艺
- 采用2/ 4"共享，4/ 6"共享，6/ 8"共享chuck，可更换
槽式清洗设备XW3000系列
- 公司自主研发、设计、制造槽式清洗设备XW3000系列
- 可用于RCA 清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管前清洗以及其它特殊工艺清洗需求
- 设备采用模块化设计，可依照客户不同化学药液及工艺需求定制化设计
单片蚀刻清洗设备XS5000系列
- 公司自主研发、设计、制造单片式清洗设备XS5000系列
