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BNE TC2000
  • 公司自主研发涂胶显影设备TC2000，适用于多种材料涂覆显影工艺的高端机台，支持与光刻机联机作业
  • 该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，满足各种功能芯片制程需求
  • 可广泛用于8寸以下半导体、化合物半导体、MEMS及LED等领域