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涂胶显影设备
BNE TC2000
BNE自主研发的涂胶显影设备TC2000,适用于I-line、KrF、ArF及PI等工艺。设备配置了高精度、高稳定性的传送模组与工艺模组,以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护,可广泛应用于IC、先进封装、MEMS、功率器件、射频集成等领域,设备还可根据需求进行功能定制化开发,以满足客户对于不同产品的需求。
BNE TC1500
适用于前道光刻工艺I-Line,覆盖先进封装、化合物等领域,占地面积极少的4 Spin Unit设备。可根据客户需求进行设备的定制化开发,以满足客户对于不同产品的需求。
TEL中古涂胶显影设备
BNE专业承接TEL多系列涂胶显影设备的全方位服务,涵盖拆机、安装、翻新、软硬件改造、Parts替代开发及维护保养。
BNE TC1000-SC喷胶机
BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-SC喷胶机,适应于深孔喷胶TSV、高深宽比台阶喷胶,提供高精度高性能的工艺模组,以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护,广泛应用于12寸及以下先进封装、MEMS等领域。