产品中心
Products Center
Nikon EX12B
Nikon EX12B步进式光刻机
光源波长248nm
分辨率优于0.3µm
主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
光源波长248nm
分辨率优于0.3µm
主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生产线
广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等领域
产品详情
| 分辨率 | 0.3µm |
| N.A. | 0.55 |
| 曝光光源 | 248nm |
| 倍率 | 5:1 |
| 最大曝光现场 | 22mm*22mm |
| 对准精度 |
LSA：55nm |
更多服务
提供中英文软件及2"、4"、6"、8"设备硅片改造
常年提供所有备件、耗材
更多型号设备，欢迎致电或继续浏览我们的网站！